全國服務咨詢熱線：
18861577951
18861577951
相關文章
Related Articles詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光鏡
Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡
高損傷閾值激光鏡，專為飛秒激光器設計。使用的IBS鍍膜技術生產。
產品介紹
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術生產。反射鏡的設計波長包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。
在ISO標準21254-2 1000-on-1條件下，以50 fs脈沖，100 Hz在反射鏡設計波長下測量激光誘導的損傷閾值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
設計波長 - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
041-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
設計波長 - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0515T6HHR | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0515T6HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設計波長 - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0800T6HHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800HHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12HHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設計波長 - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
081-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
081-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
設計波長 - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-1030T6HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
041-1030T6HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面質量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 離子束濺射（IBS） |
附著力和耐久性 | 根據MIL-C-675A，不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過直徑的85％ |
鍍膜表面平整度 | 透明孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
激光引起的損傷閾值 | 在設計波長，50 fs脈沖，100 Hz下測量 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品咨詢
掃一掃，關注微信
電話
微信掃一掃
當前位置：