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Eksma 硒化鋅(ZNSE)窗口片

簡要描述:Eksma 硒化鋅(ZNSE)窗口片
由于透射范圍非常廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學組件(窗口片,反射鏡,透鏡)。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:748

產品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 硒化鋅(ZNSE)窗口片

由于透射范圍非常廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學組件(窗口片,反射鏡,透鏡)。

Eksma 硒化鋅(ZNSE)窗口片

產品介紹

Ø在可見光譜的紅色端吸收低

Ø不吸濕

Ø在實驗室環境中相當穩定

硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍非常廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學組件(窗口片,反射鏡,透鏡)。

產品型號

Uncoated

型號

直徑

厚度

鍍膜

560-6120

ø 12.7 mm

2 mm

uncoated

560-6121

ø 12.7 mm

3 mm

uncoated

560-6250

ø 25.4 mm

2 mm

uncoated

560-6251

ø 25.4 mm

3 mm

uncoated

560-6381

ø 38.1 mm

3 mm

uncoated

560-6501

ø 50.8 mm

3 mm

uncoated

560-6503

ø 50.8 mm

5 mm

uncoated

鍍膜

型號

直徑

厚度

鍍膜

560-6122

ø 12.7 mm

2 mm

AR/AR@10.6 µm, AOI=0°

560-6253

ø 25.4 mm

3 mm

AR/AR@10.6 µm, AOI=0°

560-6383

ø 38.1 mm

3 mm

AR/AR@10.6 µm, AOI=0°

560-6505

ø 50.8 mm

5 mm

AR/AR@10.6 µm, AOI=0°

560-6766

ø 76.2 mm

6,4 mm

AR/AR@10.6 µm, AOI=0°

物理性質

晶體類型

立方體

密度g / cm3

5.27

熔點,℃

1525

折射率@ 8-13 µm

n = 2.417-2.385

折射率@ 10.6 µm

n = 2.403

透射帶,微米

0.6÷22

體積吸收系數cm-1 @ 10.6 µm

0.6-1.0×10-3

線性熱膨脹系數,°C-1

8.56×10-6

 

規格

材料

ZnSe

表面質量

40-20表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

通光孔徑

90% of the diameter

直徑公差

+0.0 -0.13 mm

厚度公差

±0.1 mm

平行性

3 arcmin

平整度

λ /40 per inch @ 10.6 µm over clear aperture

鍍膜

both surfaces AR coated @ 10.6 µm, R ≤ 0.5% per surface

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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